나노공정 탑다운 기술, 하향식 기술
페이지 정보
- 용어
- 탑다운 기술, 하향식 기술
- 요약
- 전자빔을 직접 원하는 모양대로 감광막에 쏘아서 패턴을 만들어내는 방법
- 참고문헌
- - 이인식, 나노기술이 미래를 바꾼다. 김영사 (2002)
- http://mems.interpia98.net - 분류
- 나노공정 > 나노공정일반
본문
바텀 업(Bottom-up)과 반대되는 개념으로, 기계적인 가공을 주요수단으로 하며, 벌크재료들을 분리하여 나노구조체로 조각하는 방식이다. 기계적인 밀링이나 초정밀가공, 에칭, 리소그래피 등을 이용한 기술을 말한다. 리소그래피에서 사용하는 광원은 파장에 따라 mercury G-line (436 nm), mercury I-line (365 nm), KrF (248 nm), ArF (197 nm), 엑시머레이저 (157 nm) 등이 있으며 파장이 짧아짐에 따라 더 작고 정확한 소자를 구현할 수 있다.
소자의 집적도가 커짐에 따라 극자외선 리소그래피 (Extreme Ultraviolet Lithography)나 전자빔 리소그래피 (Electron-beam Lithography) 등이 대안으로 제시되고 있으나 가격경쟁력, 안정적인 고출력의 광원의 제작, 정밀한 반사경의 제작, 감광제의 개발등 여러 가지 문제점을 해결하기 위해 많은 연구가 진행되고 있다.
위의 문제를 해결하기 위해 최근 개발된 리소그래피로는 프린스턴대학의 초우 교수 연구실에서 개발한 나노임프린팅 (Nanoimprinting) 기술이 있다.