용어의 정의

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극자외선 노광(extreme UV lithography)은 극자외선 영역의 파장을 갖는 빛을 감광막에 노출시켜서 원하는 패턴을 얻는 방법을 말한다. 이 과정에는 일반적인 광투영 리소그래피(optical projection litho graphy)와 같이 패턴이 미리 새겨져 있는 마스크와 이미지 크기를 줄이기 위한 광학 렌즈가 필요할 것이다. 하지만 극자외선 영역의 짧은 파장에 쓰이는 마스크와 렌즈를 만들기가 어렵기 때문에 기존의 리소그래피와는 달리 거울을 통한 반사 시스템 방식을 사용하게 된다. 위의 그림은 극자외선노광 방법을 잘 보여주고 있는데, 극자외선이 마스크를 통과하는 것이 아니라 반사하면서 패턴을 입력받게 되고, 이미지의 크기 역시 여러 겹의 반사경을 통과하면서 1/4정도로 줄어들게 된다. 13.4 nm 파장의 극자외선은 레이저 플라즈마 또는 입자가속기로부터 얻을 수 있으며, 반사경은 주로 몰리브덴과 실리콘으로 만들어진다.
이 방법의 가장 큰 장점은 높은 해상도의 제품을 대량생산할 수 있으며, 또한 이미지의 축소가 일어나므로 마스크의 크기를 4배 정도로 크게 할 수 있다는 점이다. 이미 이 방법을 통해 70 nm 정도의 선폭을 구현할 수 있다는 것이 실험을 통해 보여졌다. 하지만 아직 실용화가 되기에는 많은 문제점이 남아있다. 우선 마스크와 반사경 표면조도(surface roughness)를 줄이는 것이 중요한데 0.25 nm 이내로 거칠기를 줄여야 한다. 또한 마스크와 반사경은 내부 응력이 있어서는 안 되고 온도변화에도 민감해서는 안 된다. 그리고 이렇게 만든 마스크와 반사경이 얼마나 정확한 위치에 놓이는가 하는 것도 중요한 문제이다. 이러한 문제를 해결하기 위해 현재 많은 연구가 이루어지고 있다.