정책연구보고서

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펨토기술은 극초단(ultrashort), 초고속(ultrafast), 초정밀(ultra-precise), 초광대역(ultra-broad), 초강력(ultra-intense)의 특성을 갖으며,  1조분의 1초 안에 일어나는 일들을 세밀히 밝혀낼 수 있어 화학반응의 제어 및 나노구조체의 제조에 있어 보다 정밀하고, 손쉬운 제어가 가능하다. 나노기술에 펨토기술을 접목함으로써 기존의 기술로는 불가능하였던 정밀 미세가공, 나노구조 반도체에서의 극초단 현상 규명, pump-probe로 대표되는 다양한 비선형 특성 분석, 펨토초 레이저를 이용한 다중 광자 과정을 통한 3차원 나노입자 이미지 제작, 펨토초 EUV를 이용한 차세대 리소그래피 등 많은 연구개발이 이루어지고 있다. 본 보고서는 펨토기술과 나노기술과 관련한 국내외 연구개발 동향 및 논문ㆍ특허정보 동향에 대하여 심층적인 분석을 수행하고 향후 기술발전에 대해 조망하였다.