정책연구보고서

나노제조(Nanomanufacturing)는 통상 100nm 이하의 나노구조물을 1차원, 2차원 및 3차원으로 제작하는 모든 과정을 의미한다. 나노제조기술은 크게 하향식(Top-down) 및 상향식(Bottom-up) 기술로 분류할 수 있다. 하향식 기술은 큰 것을 작게 만드는 축소의 원리를 이용한 기술을 의미하며, 상향식 기술은 개개 원자수준의 정확한 제어를 통하여 양자역학적으로 합성해가는 기술을 의미한다. 소프트 리소그래피(마이크로콘택트 프린트, 나노임프린트 등), 자기조립, 로봇조립, 템플리트 성장 등이 대표적인 상향식 공정들이다. 리소그래피(전자빔, 이온빔, x-ray, UV 등), 박막 적층 및 성장, polymer molding, 기계적 방법(절삭가공, 연삭, 래핑, 폴리싱) 및 전기화학적 방법 등이 대표적인 하향식 공정들이다. 본 고에서는 하향식 기술로 기존 리소그래피 기술의 향상을, 상향식 기술로 자기 조립(self-assembly), 소프트 리소그래피 기술(soft lithography techniques), 및 기타 방법들에 대하여 고찰하였다.