KIST, 그래핀 양자점 제조 단일 공정 기술 개발
페이지 정보
- 발행기관
- 헤럴드경제
- 저자
- 종류
- R&D
- 나노기술분류
- 발행일
- 2021-10-14
- 조회
- 1,178
- 출처 URL
본문
● 한국과학기술연구원(KIST) 기능성복합소재연구센터 문병준, 배수강 박사 연구팀은 간단한 화학 반응 제어를 통해 그래핀 양자점의 단일 헤테로 원자의 결합구조를 정밀하게 제어할 수 있는 기술을 개발하고, 이와 관련한 화학반응 메커니즘을 규명
● 해당 기술은 유기 전구체인 푸말로니트릴 이외에 다른 첨가제를 활용하지 않으며, 이종원소의 화학 조성을 선택적으로 조절해 그래핀 양자점을 합성할 수 있는 새로운 플랫폼 기술
● 연구팀이 개발한 공정은 전구체가 약알칼리성을 띠고 있으며, 합성 이후에는 중성을 띠므로 후처리 공정 없이 바로 활용할 수 있는 장점 보유
● 컴퓨터 모델링을 통해 그래핀 양자점 합성 공정에 사용되는 용매가 소재의 산화 정도에 영향을 미치므로 용매의 종류에 따라 최종 산물인 그래핀 양자점의 화학 조성비가 달라지는 점을 규명
● 연구팀은 그래핀 양자점 소재를 추가적인 후처리·정제 공정 없이 간편하게 대량 제조할 수 있어 공정시간을 줄이고, 경제성을 높일 수 있을 것으로 기대
※ Nature Communications 게재(2021.10.07.)
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