호서대, 2차원 소재 합성을 통한 '원자층 형성' 기술 개발
페이지 정보
- 발행기관
- 굿모닝충청
- 저자
- 종류
- R&D
- 나노기술분류
- 발행일
- 2021-10-18
- 조회
- 1,134
본문
● 호서대학교 전자및디스플레이공학부 최운섭 교수 연구팀이 2차원 소재를 대면적으로 합성해 원자층 형성 기술을 개발
● 기존에는 2차원 소재를 석영관에 황을 첨가 첨가해 고온으로 반응시키는 화학기상증착기(CVD)를 이용한 방법이 가장 많이 사용됐지만, 2차원 소재 내의 황 성분과 원자층 두께를 조절하기 어렵고, 또 패턴형성을 위한 추가적인 후공정이 필요했던 상황
● 연구팀이 개발한 기술은 기존의 CVD를 사용하지 않고 수용성인 전구체를 사용해 2차원 소재를 대면적으로 합성했으며, 2차원 소재의 수용성 전구체와 황을 첨가하여 새로운 용액(sulfur-rich solution)을 제작
● 제작한 용액으로 박막을 형성시킨 후, 이 박막을 열처리해 2차원 소재로 변환하는데 성공했으며, 이때 용매로 물을 사용해 친환경적인 공정이 가능
● 본 연구를 통해 2차원 소재를 용액 공정으로 원자층 두께를 다양하게 조절하며 합성할 수 있고, 4 inch 이상의 대면적으로도 제작될 수 있음을 증명
※ npj 2D Materials and Applications 게재(2021.09.11.)
※ 한국연구재단 지원
- 이전글KIMS, 차세대 뉴로모픽 반도체 핵심소재 개발 21.11.01
- 다음글계명대, 인슐린 경구전달용 나노약물전달시스템 개발 21.11.01