나노기술 및 정책 정보

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● 삼성전자가 EUV(극자외선) 공정을 적용한 업계 최선단 14나노 D램 양산을 시작

● 당사는 2020년 3월 업계 최초로 EUV 공정을 적용한 D램 모듈을 고객사들에 공급했으며, 업계에서 유일하게 EUV 멀티레이어 공정을 적용해 최선단 14나노 D램을 구현하는 등 차별화된 공정 기술력을 선보임

● 삼성전자는 반도체 회로를 보다 세밀하게 구현할 수 있는 EUV 노광 기술을 적용해 D램의 성능과 수율을 향상시켜, 14나노 이하 D램 미세 공정 경쟁에서 확고한 우위를 확보해 나갈 계획

● 5개의 레이어에 EUV 공정이 적용된 삼성전자 14나노 D램은 업계 최고의 웨이퍼 집적도로 이전 세대 대비 생산성이 약 20% 향상