나노기술 및 정책 정보

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● 한국기계연구원 이재종 연구위원과 임형준 책임연구원 연구팀은 400나노(nm)급 레이저 리소그래피 장비의 국산화에 성공했으며, 국내 기술로 평면과 비평면의 기판 위에 400나노 수준의 정교한 패턴을 구현한 것은 최초

● 레이저 리소그래피는 기판 위에 레지스트에 레이저 빔의 초점을 맞추면 레지스트가 빛에 반응해 경화되면서 작은 형상을 만들어낼 수 있는 기술 

● 나노 수준의 리소그래피 기술은 차세대 반도체 리소그래피 기술 중 하나로 각광받고 있으며 현재 상용화된 기술은 네덜란드 등 해외기업이 주도 

● 연구팀은 다양한 레이저 중 파장이 405나노인 청자색 레이저 다이오드를 이용해 400나노 크기의 미세한 초점을 구현, 이를 이용해 기판을 가공하는 데 성공

● 연구팀이 개발한 장비는 레이저 초점이 크기 200mm의 기판 위를 초당 40mm 속도로 이동하면서 코팅된 레지스트를 형성

● 연구팀은 레이저 직접 리소그래피는 기계, 광학, 재료, 전자공학 등 다양한 분야가 융합되는 기술이며 생산 공정의 경제성을 획기적으로 개선할 수 있을 것으로 기대