나노기술 및 정책 정보

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● 주식회사 참그래핀은 고품질 CVD 그래핀을 이용하여 지금까지 구현된 적이 없었던 25 nm 이하 두께의 그래핀으로 구현된 그래핀 펠리클 개발에 성공

● 5 나노 이하 초소형 반도체 공정에 사용되는 극자외선 EUV 장비는 대당 가격이 2,000억원을 호가하는 최첨단 장비이며, 장비의 핵심 부품인 포토마스크는 세정할 수 없어 오염으로부터 보호하기 위한 펠리클을 필요

● 5 나노 이하 공정에서 반도체 양산을 준비하고 있는 전세계 업체로부터 펠리클의 개발이 요구되어왔지만 까다로운 조건 때문에 펠리클 개발에 난항을 겪는 상황

● 참그래핀은 향후 그래핀 펠리클 대량 생산할 수 있는 수준과 품질을 갖추는 것을 목표