표준연, 반도체 산화막 두께측정 국제기준 수립 성공
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- 2021-04-30
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한국표준과학연구원이 국내 중소기업 기술로 개발한 첨단 측정 장비를 통해 1nm 이하 반도체 산화막 두께측정의 국제기준을 마련하는 데 성공함.
이번에 개발된 기술은 국제회의에서 하프늄산화막의 기준 두께를 결정하는 방법으로 채택되는 등 국제기준으로 활용됨.
※ Applied surface science 게재
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