자료실
National Nanotechnology Policy Center

나노기술 및 정책 정보

SK하이닉스, 반도체 슈퍼사이클 온다…D램·낸드플래시 시장 주도

페이지 정보

발행기관
한국경제
저자
 
종류
산업
나노기술분류
 
발행일
2021-03-01
조회
1,304

본문

b94f37b588e2fa1a8b0fe2008a8f0df0_1615166142_4209.jpg
SK
하이닉스는 기술 혁신을 통한 제품 개발로 미래 반도체 시장을 주도하겠다는 전략임.

 

올해 SK하이닉스는 1Y(나노미터·1=10억분의 1m) LPDDR5 공급을 확대하고, 256GB(기가바이트) 이상의 고용량 낸드플래시와 결합한 LPDDR5 uMCP의 시장을 키워나갈 계획임. 올해 초고속 고부가 D램 제품인 HBM 수요는 2020년 대비 두 배 이상 성장할 것으로 회사 측은 내다봄.

 

지난해 10SK하이닉스는 세계 최초로 DDR5 D램을 출시했다고 발표함. 이 제품은 전송 속도가 4800~5600Mbps로 이전 세대인 DDR43200Mbps 대비 최대 1.8배 빨라짐. 동시에 동작 전압은 1.2V에서 1.1V로 낮아져 전력 소비가 20% 감축됨. 또한 칩 내부에 오류정정회로(ECC)를 내장해 여러 원인에 의해 발생할 수 있는 디램 셀 1비트(Bit)의 오류까지 스스로 보정할 수 있게 한 점도 특징임. SK하이닉스 DDR5를 채용하는 시스템의 신뢰성은 약 20배 향상될 것으로 예상함.

 

SK하이닉스는 지난해 하반기부터 3세대 10나노급(1z) D램 제품 양산에 들어감. 차세대 모바일 D램인 LPDDR5HBM3 등 다양한 응용처에 걸쳐 1z 미세공정 기술을 적용할 계획임. 또한 지난해 말 운영을 시작한 이천 M16 팹에는 EUV 전용 클린룸이 마련돼 1A(10나노 4세대) D램부터 EUV 기술을 적용해 생산할 계획임.

 

이어 작년 12월에는 업계 최고층인 176512Gb TLC(트리플레벨셀) 4D 낸드플래시를 개발함. SK하이닉스는 96단 낸드플래시부터 CTF(차지트랩플래시)와 고집적 PUC(페리언더셀) 기술을 결합한 4D 제품을 시장에 선보이고 있음. 새로 개발한 176단 낸드는 3세대 4D 제품으로 업계 최고 수준의 웨이퍼당 생산 칩 수를 확보함.

 

이 제품의 비트 생산성은 이전 세대보다 35% 이상 향상됨. 2분할 셀 영역 선택 기술을 새롭게 적용해 셀에서의 읽기 속도는 이전 세대보다 20% 빨라짐. SK하이닉스는 올해 소비자용 SSD와 기업용 SSD를 순차적으로 출시하며 시장을 확대해 나갈 계획임.