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나노기술 및 정책 정보

세종대-KAIST 공동 연구팀, 차세대 2차원 소재 형성 박막 기술 최초 개발

페이지 정보

발행기관
베리타스알파
저자
 
종류
R&D
나노기술분류
나노공정·분석·장비 > 나노증착 기술
발행일
2024-08-19
조회
108

본문

● 엄태용 교수(세종대) 및 강기범 교수(한국과학기술원) 공동 연구팀은 원자층 증착(ALD)이 기술을 활용해 매우 얇고 균일한 Bi2SeO5 박막을 개발

● 연구팀은 원자를 하나씩 증착해 박막을 만드는 매우 정교한 기술을 기반으로 증착 과정 중 반응성이 높은 중간체를 형성하는 화학 반응을 유도하여, 전기적으로 우수한 특성을 가진 Bi2SeO5 박막을 기판 위에 형성

● 본 연구는 차세대 반도체 소자에서 고유전율 유전체로 Bi2SeO5를 사용할 수 있는 가능성을 제시해 향후 2차원 반도체 트랜지스터와 이를 이용한 모놀리식 3차원(M3D) 집적 반도체 개발에 이바지할 전망


ACS Nano (2024.08.05.), Direct Growth of BiSeOThin Films for High-k Dielectrics via Atomic Layer Deposition

한국연구재단과 과학기술정보통신부의 나노소재기술개발사업 지원