세종대-KAIST 공동 연구팀, 차세대 2차원 소재 형성 박막 기술 최초 개발
페이지 정보
- 발행기관
- 베리타스알파
- 저자
- 종류
- R&D
- 나노기술분류
- 나노공정·분석·장비 > 나노증착 기술
- 발행일
- 2024-08-19
- 조회
- 108
본문
● 엄태용 교수(세종대) 및 강기범 교수(한국과학기술원) 공동 연구팀은 원자층 증착(ALD)이 기술을 활용해 매우 얇고 균일한 Bi2SeO5 박막을 개발
● 연구팀은 원자를 하나씩 증착해 박막을 만드는 매우 정교한 기술을 기반으로 증착 과정 중 반응성이 높은 중간체를 형성하는 화학 반응을 유도하여, 전기적으로 우수한 특성을 가진 Bi2SeO5 박막을 기판 위에 형성
● 본 연구는 차세대 반도체 소자에서 고유전율 유전체로 Bi2SeO5를 사용할 수 있는 가능성을 제시해 향후 2차원 반도체 트랜지스터와 이를 이용한 모놀리식 3차원(M3D) 집적 반도체 개발에 이바지할 전망
ACS Nano (2024.08.05.), Direct Growth of Bi₂SeO₅ Thin Films for High-k Dielectrics via Atomic Layer Deposition
※ 한국연구재단과 과학기술정보통신부의 나노소재기술개발사업 지원
- 이전글POSTECH-NCSU 공동 연구팀, 자연산화막 이용한 고효율 금속 산화막 인쇄 공정 개발 24.08.30
- 다음글광운대, 신체 움직임으로 전기 만드는 ‘나노발전기’ 개발 24.08.30