SK실트론, '2나노'용 공정 기술 개발…웨이퍼 업계도 '초미세' 대응
페이지 정보
- 발행기관
- 지디넷코리아
- 저자
- 종류
- 산업
- 나노기술분류
- 나노공정·분석·장비
- 발행일
- 2024-08-20
- 조회
- 137
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본문
● 실리콘 반도체 웨이퍼 전문 제조 기업인 SK실트론은 초미세 파운드리 공정에 해당하는 300mm(12인치) 로직용 2나노급 EPI* 기술을 개발
* EPI(에피) : 연마가 끝난 실리콘 웨이퍼(폴리시드 웨이퍼) 위에 화학기상증착법(CVD)으로 초고순도의 단결정 실리콘 레이어를 성장시키는 기술로, 이 과정을 거친 웨이퍼를 ‘에피 웨이퍼’라 명명
● SK실트론은 주요 반도체 제조 기업의 요청으로 해당 기술을 연구개발(R&D) 해 온 것으로 알려져 있으며, 현재 2나노 수준의 초미세 파운드리 공정을 다루는 기업은 전 세계적으로 삼성전자, TSMC, 인텔 등 3곳에 불과
● 삼성전자, TSMC 등 주요 반도체 기업들이 내년 2나노 공정 상용화를 앞다퉈 추진 중인 상황에 대응하기 위해 지속해서 대응해 나갈 것으로 기대
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