[국내/R&D]KIST, 아크방전을 이용한 고성능 그래핀 대량 생산기술 개발
페이지 정보
- 발행기관
- IT biznews
- 저자
- 종류
- 나노기술분류
- 발행일
- 2019-12-23
- 조회
- 1,683
본문
KIST 김명종 박사 연구팀이 아크방전을 이용해 고농도의 질소가 도핑된 그래핀 분말을 제조하는데 성공함.
해당 기술로 형성된 그래핀은 기계적 물성이 우수하고 고농도 질소가 도핑되며 우수한 전도성을 가지며, 표면 이온 흡착성으로 인해 에너지 저장능력도 기존의 탄소전극보다 3배가량 향상됨.
해당 연구는 순간적으로 고출력을 낼 수 있는 ‘슈퍼커패시터(Super Capacitor)’의 대용량화에 기여할 것으로 기대됨.
※ Advanced Functional Materials 게재
※ 과학기술정보통신부, 산업통상자원부(그래핀 소재부품 기술개발사업), 한국연구재단(나노소재기술개발사업) 지원
- 이전글[국내/R&D]KAIST 색·편광 동시 제어 가능한 양자선 광원 개발 19.12.30
- 다음글[국내/R&D]GIST, 자외선 영역 전기에너지 변환기술 개발 19.12.30