[국내/R&D]나노구조체 초미세 인쇄기술 개발
페이지 정보
- 발행기관
- 전자신문
- 저자
- 종류
- 나노기술분류
- 발행일
- 2019-12-26
- 조회
- 1,751
- 출처 URL
-
- http://www.etnews.com/20191226000183 1427회 연결
본문
KAIST 정연식 교수 연구팀이 해외기술보다 정밀한 나노구조체 초미세 인쇄기술을 개발함.
기존에 나노구조체는 구조체에 나노입자를 뿌려 구조를 구현하는 방법을 사용했는데, 이 경우 생산자가 원하는 '규칙성'을 얻기 어려웠으며, 화학 가스로 표면을 식각(에칭)하는 방법도 쓰이지만 선폭 100 nm(나노미터) 이하 해상도를 얻기 어려웠음. 연구팀은 10 nm 수준 선폭으로 정밀 3차원 구조체를 대량생산하는 기술개발에 성공했으며, 미세한 금속 나노와이어를 규칙적으로 인쇄·적층하는 방법으로 정밀도를 높임.
연구팀은 분자 진동을 읽어내는 '표면증강 라만분광(SERS) 칩'에 응용하여, 해외 기술로 구현한 칩보다 신호를 10~100배 증폭시키고 진단분야 등에 활용할 수 있을 것으로 기대함.
- 이전글[국내/산업]에스비씨, 자외선차단 첨단 나노신소재 '텔리카' 런칭 19.12.30
- 다음글[국내/R&D]반도체 초박막 절대 두께 측정기술 완성 19.12.30