[국내/R&D]3차원 반도체 초미세 패턴 제작기술 개발
페이지 정보
- 발행기관
- 동아사이언스
- 저자
- 종류
- 나노기술분류
- 발행일
- 2019-07-21
- 조회
- 1,544
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본문
한국과학기술연구원(KIST) 손정곤 박사 연구팀이 아주 손쉽고 간단하면서도 다양한 종류와 모양의 블록공중합체에 쓸 수 있는 10nm 이하 초미세 나노패턴 제작 기술을 개발함. 연구팀은 낮은 에너지를 가진 입자만 통과하게 하는 필터를 활용해 고분자 필름 표면에 3~5nm 정도의 얇은 층을 만드는 기술을 개발함. 블록공중합체 필름에 이 기술을 적용해 두 고분자들이 잘 섞여 있는 얇은 층을 만들고, 이 층이 블록공중합체와 자연적으로 경계면을 형성하게 해 수직으로 배열하는 데 성공함. 게다가 연구팀은 실제 반도체 공정에서 이 기술을 이용해 3차원 입체구조 트랜지스터로 사용되는 핀펫을 흉내 낸 3차원 구조를 구현하고, 미세 화학 패턴 위에서도 결함이 거의 없는 10nm 이하의 수직 줄무늬 패턴을 만드는 데도 성공함
※ Nature Communications 게재
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