[국내/정책]국산 포토마스크 개발 시계, 1년 빨라진다
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- 나노기술분류
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- 2019-08-05
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정부가 일본의 수출규제 대응책의 일환으로 핵심 소재부품 기술 R&D(연구개발) 사업에 대해 예비타당성조사(예타)를 면제하기로 결정. 유력한 기술은 포토마스크, 탄소섬유, 2차전지 분리막이며, 여기에 핵심 장비 개발 분야가 포함될 것으로 알려짐.
R&D 예타는 정부 재정이 대규모로 투입되는 사업의 정책적·경제적 타당성을 사전에 검증·평가하는 제도로, 총 사업비가 500억원 이상에 국고 지원이 300억원을 넘는 경우가 대상임. 경제성과 정책성, 지역균형발전 등을 평가받게 되는데, 예타가 면제되면 1년 이상 개발 착수 시기를 당길 수 있으며, 시장 사이즈가 작아 경제성이 없더라도 정부 예산을 지원받을 수 있음.
세부적인 예타 면제 과제들은 오는 8월 말 최종 결정되며, 현재 산업통상자원부가 예타 면제가 필요한 과제를 고르는 작업을 하고 있음.
현재 1조96원이 투자되는 차세대지능형반도체개발사업(반도체 공정장비 개발), 5281억원이 투입되는 디스플레이혁신공정개발사업(OLED 장비 개발), 4004억원이 투입되는 ‘나노·미래소재원천기술개발사업(나노·소재 개발) 등이 예산 증액 대상 사업으로, 과기정통부 관계자는 "이미 예타를 통과한 사업들의 예산 증액 편성액은 내년 R&D 예산에 반영된다"고 설명함.
정부는 이와 함께 시장 크기가 작아 경제성이 낮은 경우에도 적시 투자가 가능하도록 경제성 분석기법을 개발하는 등 예타제도 개선에도 나섬.
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