나노기술 및 정책 정보

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한국과학기술연구원, 기초과학연구원, 성균관대학교, 동국대학교 등이 참여한 공동연구팀이 차세대 전자소자의 소재로 주목받는 ‘질화붕소’를 단결정 형태로 합성하는 기술을 개발함. 연구팀은 합성한 질화붕소 박막을 기판으로 삼아 그래핀과 이황화몰리브덴, 이황화텅스텐 등 평면 소재들을 단결정으로 합성하는 데도 성공함. 또한 그래핀과 질화붕소가 층을 이룬 구조의 소재도 만들어냄. 이번 기술은 차세대 전자소자 뿐 아니라 센서, 필터 등의 개발에 혁신을 가져올 것으로 기대함

※ Science 게재