동국대, 50 나노미터 이하 리소그래피 기술 개발
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- 저자
- 종류
- R&D
- 나노기술분류
- 나노공정·분석·장비 > 나노패터닝 기술
- 발행일
- 2024-03-21
- 조회
- 399
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● 장재원 교수(동국대) 연구팀은 원자간력 현미경(AFM)에 사용되는 수십 나노미터의 탐침을 이용하여 50nm 이하 크기의 저비용 리소그래피 기술을 개발
● 연구팀은 금속 기판의 스크래치 및 손상을 방지하는 폴리머 희생층을 도입하여 30nm 수준의 금속 나노 구멍과 15nm 수준의 금속 나노선 구조뿐 아니라 나노 광학 소재 및 센서로 활용될 수 있는 하이브리드 플라즈모닉 구조를 구현
● 본 연구는 클린룸, 전자빔 장치 같은 고가의 시설 없이 50nm 크기 이하의 구조물 제작이 가능한 저비용 고분해능 나노공정 기술 개발이라는 점에서 큰 의의
Small (2024.01.29.), Tip-based Lithography with a Sacrificial Layer
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