KAIST-고려대 공동 연구팀, 차세대 이차원 반도체 핵심 기술 개발
페이지 정보
- 발행기관
- KAIST
- 저자
- 종류
- R&D
- 나노기술분류
- 나노공정·분석·장비 > 나노패터닝 기술
- 발행일
- 2024-03-28
- 조회
- 402
본문
● 강기범 교수(한국과학기술원) 및 김용주 교수(고려대) 공동 연구팀은 이차원 반도체의 수평 성장 성질을 이용해 산화물, 금속의 10 나노미터 이하 미세패터닝 기술을 개발
● 연구팀은 이차원 전이 금속 ‘칼코겐’ 물질의 결정학적 특징을 패터닝 기술에 접목하여, 성장 시 수평 방향으로만 자라는 서로 다른 이차원 물질을 반복적으로 성장시켜 10 나노미터 이하 수준의 반도체 선형 패턴 제작
● 또한 연구팀은 선형 패턴에 산화물, 금속, 상변화 물질을 성장할 때 한 영역 위에서만 선택적으로 증착되는 현상을 발견해 타깃 물질 패턴 크기의 축소와 이차원 반도체의 소자 제작 공정 효율성 증대에 이바지할 것으로 기대
● 본 연구의 기술은 반도체 산업의 소자 제작에서 필수적으로 활용되는 고유전율 절연체(산화 알루미늄, 산화 하프늄)와 전극 금속(루테늄) 등의 선택적 증착을 확인하여 반도체 시장에서 활발히 응용될 전망
Nature Communications (2024.03.08.), Area-selective atomic layer deposition on 2D monolayer lateral superlattices
※ 한국연구재단과 과학기술정보통신부의 나노소재기술개발사업 지원
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