나노기술 및 정책 정보

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● 박운익 교수(부경대) 연구팀은 반도체 공정에서 8인치 웨이퍼에 20나노급 초미세 패턴을 형성하는 신개념 듀얼 나노패터닝 공정을 최초로 개발

● 연구팀은 패턴전사프린팅 공정에 실리콘(Si)이 함유된 블록 공중합체의 자기조립 현상을 복합하는 방법을 적용하여 8인치 웨이퍼 상에 규칙적으로 정렬된 20나노급 실리카(SiOx) 구조물을 형성하는 듀얼 나노패터닝 프로세스를 개발하는 데 성공

● 듀얼 나노패터닝 공정은 기존 패터닝 기술의 10분의 1 이상 저렴한 비용으로 더욱 복잡한 회로를 가진 고집적 패턴을 구현할 수 있어 차세대 반도체 기술 발전에 기여할 수 있을 것으로 기대

Advanced Science (2023. 08. 21.), Direct Printing of Ultrathin Block Copolymer Film with Nano-in-Micro Pattern Structures