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나노기술 및 정책 정보

포스텍-고려대 공동 연구팀, 자외선 제어 가능한 메타표면 가공기술 개발

페이지 정보

발행기관
조선비즈
저자
 
종류
R&D
나노기술분류
나노공정·분석·장비
발행일
2023-04-04
조회
611

본문

● 노준석 교수(포스텍) 및 이헌 교수(고려대) 공동 연구팀은 나노스케일 해상도의 메타표면을 고굴절 재료로 간단히 프린팅하는 가공기술을 개발

● 연구팀은 메타표면 초정밀 공정 개발을 위해 내구성과 화학적 안정성이 높아 인체에 무해한 세라믹 재료인 '지르코니아(ZrO2)' 나노입자가 첨가된 고굴절 레진을 개발

● 또한, 전자기학 설계기술로 고성능 자외선 메타표면을 설계하고 스탬프를 이용해 나노소자 패턴을 웨이퍼 기판에 찍어내는 나노임프린트(NIL) 공정으로 메타표면을 구현

● 해당 공정으로 구현된 메타표면은 자외선(325nm)과 심자외선(248nm) 파장에서 각각 72.3%48.6%의 빛 제어 효율을 확인

● 본 연구는 메타표면 제작 기술을 통해 제어 가능한 빛의 파장 범위를 확대하고 프린팅 방식의 빠른 생산성을 동시에 확보함에 따라 고성능 메타표면의 저비용 생산의 실용화를 앞당길 것으로 기대


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