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나노기술 및 정책 정보

충남대-컬럼비아대 공동 연구팀, 그래핀을 위한 고품질 양극성 전하이동 도핑 기술 개발

페이지 정보

발행기관
충청뉴스
저자
 
종류
R&D
나노기술분류
나노공정·분석·장비
발행일
2023-04-04
조회
612

본문

● 최민섭 교수(충남대) 및 김세윤 박사, Aaron J. Sternbach 박사, Dmitri N. Basov 교수(미국 컬럼비아대) 공동 연구팀은 2차원 산화막 형성을 통한 그래핀의 양극성 전하이동(ambipolar charge-transfer) 도핑 기술을 개발

● 연구팀은 그래핀 위에 전이금속 디칼코게나이드(transition metal dichalcogenides)를 적층하고 UV 오존으로 산화막을 형성함으로써 그래핀에 손상을 주지 않고 고농도로 도핑할 수 있는 기술을 개발

● ‘WSe2‘ZrSe2를 산화공정을 통해 산화막을 형성해 그래핀의 양극성 전하이동 도핑 효과를 확인했으며, 다양한 반도체 및 절연층을 중간층으로 삽입해 표면 플라즈몬 폴라리톤을 관찰하는 한편 이의 파장을 효과적으로 조절

● 해당 도핑 기술은 그래핀뿐 아니라 다양한 나노소재에 적용할 수 있는 범용적이고 고품질의 도핑 기술로 향후 다양한 나노전자 및 나노플라즈모닉 소자 등에 활용될 수 있을 것으로 기대


Nature Materials (2023.03.30.), Ambipolar charge-transfer graphene plasmonic cavities