화학硏, 반도체 표면에 빛으로 회로 새기는 기술 개발
페이지 정보
- 발행기관
- 디지털조선일보
- 저자
- 종류
- R&D
- 나노기술분류
- 나노공정·분석·장비
- 발행일
- 2022-10-21
- 조회
- 666
본문
● 김현우 선임연구원(한국화학연구원)과 신채호 책임연구원(한국표준과학연구원), 김태완 교수(전북대 전기공학과) 공동 연구팀은 원자 하나 두께의 얇은 반도체 위에 회로를 그리는 ‘레이저 기반 이차원 박막 반도체 패터닝’ 기술을 개발
● 연구팀은 이차원 박막 반도체 밑에 인듐 나노입자를 깔고 특정 세기의 레이저를 쏘는 공정 방법을 개발
● 수백㎚의 정확도로 이차원 박막 반도체 위에 회로를 그리는 것이 가능하고, 이차원 반도체 물질의 손상을 최소화할 수 있으며, 가공 시간도 수초 내로 짧아, 향후 고용량 반도체 메모리, 투명 유연 디스플레이, 웨어러블 바이오 센서 등에 활용될 수 있을 것으로 기대
Advanced Optical Materials (2022.09.13.), Optical Soldering of MoS2 Layers for Defect Structure Formation with Induced Photoluminescence
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