나노기술 및 정책 정보

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● 나노종합기술원은 반도체 소부장 지원역량 강화를 위해 12인치 반도체 20나노 미세패턴 공정기술을 개발

● 개발된 공정기술은 기구축 장비를 활용한 공정기술(노광, 식각, 박막 등) 개발과 집적화를 통한 기술개발 성과로, 12인치 핵심장비(ArF Immersion Scanner)의 40나노 노광공정과 식각공정 등을 기반으로, SADP(Self-Aligned Double Patterning) 기술을 개발하여 20나노 미세패턴(1:1 Pitch, Line과 Space 비율)을 구현

● 특히, 개발된 공정기술은 추가적인 장비 투자 없이 기술원이 보유한 12인치 반도체 장비만을 활용하여 구현된 기술로 예산 절감(200억원 이상), 개발기간 단축과 집적도를 4배 높일 수 있는 공정기술을 확보하였다는 데 큰 의의를 보유

● 개발된 공정기술을 활용하여 20나노 미세패턴을 활용할 국내 반도체 소재(감광제, 반사방지막 등) 기업과 장비기업의 서비스 수요에 활용할 계획이며, 이를 통하여 서비스 영역 확장을 추진할 계획

※ 과학기술정보통신부 지원