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나노기술 및 정책 정보

호서대, 2차원 소재 합성을 통한 '원자층 형성' 기술 개발

페이지 정보

발행기관
굿모닝충청
저자
 
종류
R&D
나노기술분류
 
발행일
2021-10-18
조회
1,148

본문

● 호서대학교 전자및디스플레이공학부 최운섭 교수 연구팀이 2차원 소재를 대면적으로 합성해 원자층 형성 기술을 개발

 기존에는 2차원 소재를 석영관에 황을 첨가 첨가해 고온으로 반응시키는 화학기상증착기(CVD)를 이용한 방법이 가장 많이 사용됐지만, 2차원 소재 내의 황 성분과 원자층 두께를 조절하기 어렵고, 또 패턴형성을 위한 추가적인 후공정이 필요했던 상황

 연구팀이 개발한 기술은 기존의 CVD를 사용하지 않고 수용성인 전구체를 사용해 2차원 소재를 대면적으로 합성했으며, 2차원 소재의 수용성 전구체와 황을 첨가하여 새로운 용액(sulfur-rich solution)을 제작

 제작한 용액으로 박막을 형성시킨 후, 이 박막을 열처리해 2차원 소재로 변환하는데 성공했으며, 이때 용매로 물을 사용해 친환경적인 공정이 가능

 본 연구를 통해 2차원 소재를 용액 공정으로 원자층 두께를 다양하게 조절하며 합성할 수 있고, 4 inch 이상의 대면적으로도 제작될 수 있음을 증명 


npj 2D Materials and Applications 게재(2021.09.11.)

한국연구재단 지원