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National Nanotechnology Policy Center

나노기술 및 정책 정보

일본 초고감도 포토 트랜지스터 개발

페이지 정보

발행기관
도쿄대학교
저자
 
종류
R&D
나노기술분류
나노정보전자
발행일
2022-12-12
조회
914

본문

타케나카 미츠루 교수(도쿄대) 연구팀이 실리콘 광회로에서 동작하는 초고감도 포토 트랜지스터를 개발

광흡수층이 되는 인듐갈륨비소(InGaAs) 박막을 실리콘 광도파로(silicon optical waveguide) 위에 붙이고 InGaAs 박막을 트랜지스터의 채널, 실리콘 광도파로를 게이트로 하는 소자 구조를 제안

실리콘 광도파로를 통해 전파되는 광신호의 일부가 InGaAs층에 흡수되어 트랜지스터의 문턱 전압이 이동함으로써, 광신호가 증폭되는 포토 트랜지스터 동작을 얻는데 성공

실리콘 광도파로를 게이트로 함으로써 광 흡수를 억제하면서 효율적인 트랜지스터 동작을 얻을 수 있게 되어, 광 신호가 100만 배로 증폭되는 초고감도 동작을 실현했으며, 이는 기존 도파로형 트랜지스터에 비해 1000배 이상 높은 감도로 1조분의 1와트라는 매우 미약한 광신호 검출이 가능

본 연구를 통해 광회로 내의 광신호 측정이 용이하게 됨으로써, 광전 융합을 통한 컴퓨팅 기술의 발전에 기여할 것으로 기대