나노기술 및 정책 정보

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● 중국과학원 이화학기술연구소의 정메이링 연구원과 지난대학의교 돤쉬안밍 교수 공동연구팀이 780nm 파장의 펨토초 레이저 광원을 사용하여 빛의 회절 한계를 극복

● 특히, 초회절 나노리소그래피 기술로 무기 포토레지스트인 HSQ(Hydrogen Silsesquioxane)에서 레이저 파장의 30분의 1(λ/ 30)에 불과한 26nm의 피처 사이즈(feature size)를 실현하고 고온 내성과 용매 내성이 뛰어난 3D 무기구조체 제조에 성공

● 3D 레이저 프린팅 기술은 3D 무기 미세구조체 제조에 매우 필요하지만, 재료 및 회절한계가 피처 사이즈의 해상도에 영향을 미치기 때문에 나노 수준의 구조체를 실현하기는 어려우며 3D 프린터로 나노 크기의 무기구조체를 만들려면 초회절 나노리소그래피 기술이 필요

● 연구팀이 고안한 기술로 제작한 나노 크기의 3D HSQ 무기구조체는 600℃의 고온에도 끄떡없고, 소형 HSQ 프레넬 렌즈는 진한 황산(농도 98%) 용액에서도 높은 내성을 보임

● 해당 연구 성과는 근적외 펨토초 레이저의 비선형 광학효과를 충분히 활용하여 마이크로/나노 사이즈의 복잡한 3D 구조체를 간편하고도 고효율적으로 제조할 수 있는 기술적 방안을 제시

※ Nature Communications 게재(2022.03.15.),“λ/30 Inorganic Features Achieved by Multi-Photon 3D Lithography”