미국 인텔, 1.8 나노공정 개발 전진기지 가동
페이지 정보
- 발행기관
- 아이뉴스24
- 저자
- 종류
- 산업
- 나노기술분류
- 나노공정·측정·정비
- 발행일
- 2022-04-12
- 조회
- 1,263
- 출처 URL
본문
● 미국 기업 인텔이 1.8nm(나노미터) 반도체 공정 개발의 전진기지가 될 미국 오리건주에서 공장 가동을 시작
● 인텔은 3조원 이상을 투자한 이 공장을 주축으로 선단 공정 개발에 속도를 낼 예정
● 해당 공장은 새로운 클린룸 공간(특수 웨이퍼와 칩을 처리하기 위해 공기 중 미립자의 농도를 극도로 낮게 유지하는 공간)을 추가하며, 이를 통해 생산능력 20%를 확대하는 것이 목표
● 인텔은 반도체 위탁생산(파운드리)에 사활을 걸면서 2024년에 2나노, 2025년에 1.8나노 공정을 적용하려고 하였지만, 이를 앞당겨 2024년 상반기에 2나노, 같은 해 하반기에 1.8나노 반도체를 생산할 계획
- 이전글바이러스 변이에 효과적인 나노입자 기반 약물 개발 22.04.25
- 다음글구리 커버에서 우수한 성장을 보이는 그래핀 결정 22.04.19