EU 7nm 칩을 위한 포토 리소그래피
페이지 정보
- 발행기관
- Nanowerk
- 저자
- 종류
- R&D
- 나노기술분류
- 발행일
- 2021-02-02
- 조회
- 3,128
- 출처 URL
본문
유럽연합집행위원회가 지원하는 SENATE 프로젝트(ECSEL Joint Undertaking 하에서 공정 제조 솔루션을 발전시키기 위한 주제별로 연결된 이니셔티브 체인의 일부)는 극 자외선(EUV) 리소그래피 도구를 사용하여 최초의 상용 7nm 노드 칩 생산을 지원함. 이 공정은 작년에 시장에 출시된 여러 스마트 폰에 이미 탑재되어 있음.
SENATE 프로젝트의 모든 활동은 칩 산업이 7nm 노드로 마이그레이션 할 수 있도록 유럽 공급 업체를 지원하는 것이었음.
7nm 기술 노드는 10nm 이후의 최신 상용 칩으로, 더 작은 기능 크기와 더 작은 트랜지스터가 더 빠르고 에너지 효율적인 공정으로 변환됨. 즉, 기능이 더 풍부하고 전력 소모가 적은 스마트 폰 및 기타 전자 장치를 의미함.
SENATE에서 개발된 기술은 이러한 칩을 세계 최초의 상용 EUV 리소그래피 시스템으로 구축할 수 있게함. 극도로 짧은 파장의 자외선을 사용하여 포토 마스크라고 하는 불투명한 템플릿의 패턴을 반도체 기판의 감광성 재료로 전송한 다음 증착 공정을 통해 집적 회로를 인쇄함. 더 짧은 13.5nm 파장의 EUV 빛은 고급 칩 설계에서 나노 규모의 기능을 더 잘 인쇄할 수 있음.
전 세계 40개 파트너 회사 및 연구 기관의 전문 지식을 바탕으로 프로젝트 팀은 시스템 통합, 혁신적인 증착 프로세스, EUV 마스크 인프라, 반사 광학 요소 개발, 7nm 노드용 계측 도구 및 모듈의 자격을 포함하는 수많은 문제를 극복함. 그 결과 50개 이상의 프로젝트 간행물과 33개의 특허가 나왔음.
프로젝트 코디네이터는 리소그래피, 계측 및 처리 장비와 연구 및 기술 조직의 장비 공급 업체 간의 협력을 가능하게 함으로써 7nm 노드 기술의 사양을 충족하는데 기여하여 전자 산업에서 7nm EUV를 채택하게 되었음. 이는 차례로 ‘무어의 법칙’을 유지하는 데 도움이 됨.
SENATE는 1990년대 후반부터 EU의 지원을 받아 운영되는 'More Moore'주제 프로젝트의 성공적이고 지속적인 체인 중 하나이며, 공공-민간 파트너십을 활용하여 연속적인 칩 기술 노드로의 마이그레이션을 촉진함.
이러한 프로젝트에서 수행된 작업은 유럽 반도체 제조 도구 산업 및 관련 부문의 확장에 지속적으로 상당한 기여를 하고 있으며, 혁신 및 특허 등록은 물론 기업 및 일자리 성장을 촉진함.
'무어의 법칙'은 더 높은 효율성과 더 낮은 비용으로 더 많은 연산 능력에 대한 수요가 계속 증가하는 것에 관한 것임. 기술 분야에서 특정 노드에 도달하면 다음을 살펴보기 위한 연구 개발 활동이 이미 있을 것이며, R&D는 기술의 경계를 다음 단계로 끌어 올리는 지속적인 활동임.
이와 관련하여 프로젝트 파트너는 이미 7nm 기술 노드를 넘어 미래의 칩 생산 요구 사항에 필요한 차세대 솔루션을 개발하고 있음.
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