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National Nanotechnology Policy Center

나노기술 및 정책 정보

일본 은 나노 잉크를 이용하여 저온 공정에서 초미세 묘화에 성공

페이지 정보

발행기관
시사통신사
저자
 
종류
산업
나노기술분류
 
발행일
2020-12-08
조회
2,516

본문

다이셀이 당사의 은 나노 잉크‘Picosil(R)’을 이용한 저온 프로세스(섭씨 120)에서의 초미세선 묘화(描画)’에 성공함. 은 나노 잉크는 수십 나노미터의 은 입자를 함유하는 배선/전극을 형성하는 전도성 잉크임. 입자 지름이 매우 작기 때문에 선폭이 좁은 배선 형성 가능성이 프린티드 일렉트로닉스 분야에서 기대되고 있었음. 특히, 은 나노 잉크에 의한 5μm 이하의 초미세선 묘화는 고온 공정을 필요로 하는 잉크를 사용할 경우에만 가능하다고 여겨졌지만, 저온 프로세스에서 사용할 수 있는 ‘Picosil(R)’을 통해 수지 필름 등의 묘화가 가능해짐. 당사 연구진은 SIJ기술의 ‘Super Inkjet Printer’를 장치로 사용하여 ‘Picosil(R)’을 통해 선폭 1.5μm초미세선 묘화에 성공함. 한편, OA 기기나 산업용으로 널리 사용되는 피에조(piezo) 타입 헤드 잉크젯 프린터 장치를 이용하여, 선폭 30μm 이하의 묘화에도 성공함. 피에조 타입 헤드 잉크젯 장치에 의한 은 나노 잉크 묘화는 지금까지 선 폭 60μm 정도가 한계였음. 터치 패널이나 유기 EL의 전극에 사용되는 투명 도전층은 현재의 성능보다 저항을 낮출 것이 요구되고 있는데, 초미세선 묘화를 통해 선폭 1.5μm의 배선을 부여할 수 있기 때문에 투명성을 유지하면서 투명 도전층 저항을 보다 낮출 수 있음. 본 연구 성과는 투명 히터 열선으로도 활용할 수 있을 것으로 기대됨.