중국 6나노 EUV 제조 공법 개발
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- 망이신문(网易新闻)
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- 산업
- 나노기술분류
- 발행일
- 2020-08-16
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- 2,928
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최근 중국 과학기술 분야에서 이슈는 화워이(華爲) 회사가 현재 직면하고 있는 어려움을 해결하는 문제인데 중국과 미국 양국 무역갈등으로 인해 발생되는 여러 가지 문제점 중의 하나임. 중국이 칩 관련 핵심분야에서 독자적인 연구개발을 하는 중요한 과제에 직면하여 있으며, 특히 6나노 EUV 제조공법 개발이 해결해야 할 시급한 이슈가 되고 있음.
현재 중국 내 관련 업체와 연구개발 기관들은 독자적인 6나노 EUV 제조공법 개발을 추진하고 있음. 특히 중국 "즈광(紫光) 그룹"은 최근 수 년 간 EUV 제조공법 관련 개발을 중점적으로 추진해왔으며, 2020년 2월에 6나노 EUV 제조공법 개발에서 중요한 성과를 취득하고 동 공법에 기반하여 5G칩을 개발하여 오는 2021년도에 출시하게 될 전망이어서 화워이(華爲) 회사를 포함한 중국 내 관련 업체들에 큰 희망을 가져다주고 있음.
중국 내 첨단기술 업체들은 장기간 칩 문제로 인해 큰 영향을 받아왔으며, 특히 중국과 미국 양국 간의 무역갈등이 심각해짐에 따라 중국 내 첨단기술 업체들의 발전은 칩과 관련된 어려움 직면한 상황임. 중국 "즈광(紫光) 그룹"이 독자적으로 연구개발한 "즈광(紫光) 잔루이(展銳)" 2세대 5G SoC 모바일칩은 현재 이미 상용화되었으며, 이 칩은 6나노 레벨의 중국산 칩으로 차세대 "중국 칩" 역할을 하고 있음.
중국은 EUV 분야에서 선진국의 제한을 받아 모바일칩 개발을 실현하지 못한 상황임. 중국 자체 브랜드 휴대폰은 미국 퀄컴회사의 "스냅드래곤 칩(Snapdragon chip)"을 사용하고 있는데 중국과 미국 양국 간의 무역갈등이 고조됨에 따라 "스냅드래곤 칩"의 사용에 제한을 받고 있음. 특히 화워이(華爲) 회사가 미국정부의 제재 대상이 되면서 중국은 독자적으로 개발한 차세대 모바일칩을 사용해야 하는 국면에 직면하게 되었음.
중국 화워이(華爲) 회사는 자체의 약점과 단점을 해결하기 위해 독자적으로 칩 개발을 추진하여 왔으며, 중국 "즈광(紫光) 그룹"도 독자적인 연구개발을 통해 6나노 EUV 제조공법 개발을 추진한 외에 차세대 5G 모바일용 신형 6나노칩 개발에 성공하였음. "즈광(紫光) 그룹"은 6나노 EUV 제조공법으로 차세대 5G 모바일용 신형 6나노 칩인 "후번(虎贲) T7520"을 개발하였는데 동 칩은 세계 최초의 6나노 EUV 제조공법으로 개발한 차세대 5G 모바일용 신형 6나노칩에 속함.
중국 "즈광(紫光) 그룹"은 6나노 EUV 제조공법이라는 핵심 기술을 보유한 외에 집적 방식의 5G 베이스 밴드 기술을 사용하여 듀얼 모드(Dual mode) 5G 네트워크 지원을 실현하였는데 동 연구개발 성과는 세계 최초의 "전경(Full scene) 커버 증강 5G 베이스 밴드"에 속하고 있어 그 의미가 주목됨.
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