나노기술 및 정책 정보

• 목록

도쿄대학(東京大學) 대학원 이학계연구과 화학전공, 양자과학기술연구개발기구(QST) 양자빔과학부문 등의 공동 연구그룹이 근적외선의 펨토초 레이저의 고차 고조파로서 극단 자외광을 발생시키고 극단 자외광을 회절 한계까지 집광시켜 시료에 조사한 결과, 서브 마이크로 미터 수준의 미세 가공을 실현함. 연구진은 근적외선 펨토초 레이저 펄스를 아르곤 가스에 집광, 극단자외역(파장 약 32nm)의 고차 고조파를 발생시키고, 독자 개발한 회전 타원 미러에 의해 서브 마이크로 미터 직경에 집광 아크릴 수지(PMMA) 박막 및 금속 나노 입자 레지스트 박막의 가공을 실시함. 또한 가공 부위를 현미(顕微) 라만 분광에 의해 평가하고, 가공에 수반되는 PMMA 박막 중의 화학 결합이 끊어지는 박막 내 미세 결정 구조의 변화를 확인함. 본 연구를 통해 극단 자외역의 고차 고조파 빛을 고정밀 반사 광학 소자를 이용하여 집광시키면 서브 마이크로 미터 영역의 미세 가공이 가능하다 것이 규명됨. 본 성과는 향후 미세 가공 공정으로 응용될 것으로 보이며, 레이저 미세 가공의 가능성을 크게 향상시킬 것으로 기대됨. 

본 연구는 ‘Optics Letters’ (“Surface processing of PMMA and metal nano-particle resist by sub-micrometer focusing of coherent extreme ultraviolet high-order harmonics pulses”)지에 게재됨.