일본 반도체 냉각성능 개선 가능한 복사열 전달률 향상 방법
페이지 정보
- 발행기관
- Nanowerk
- 저자
- 종류
- R&D
- 나노기술분류
- 나노정보전자 > 나노융합 시스템반도체 및 전력소자
- 발행일
- 2024-05-09
- 조회
- 463
본문
● Masahiro Nomura 교수(The University of Tokyo) 연구팀은 마이크로스케일 실리콘 플레이트 2개를 분리 배치하면 복사열 전달률을 2배 증가시킬 수 있다는 사실을 발견
● 연구팀은 이산화규소(SiO2) 코팅을 사용해 실리콘 플레이트 표면 포논과 광자의 결합을 구현했으며, SiO2 코팅층의 경계면에서 전자기파가 여기되어 복사열 전달률이 향상되는 현상을 이론적, 실험적으로 확인
● 본 연구 결과는 실리콘에 기반하는 기존 반도체 기술에 접목하기 용이하면서도 반도체 소자 냉각성능을 대폭 개선할 수 있으며, 나노스케일에서 일어나는 열전달 현상의 원리 규명에 기여할 것으로 기대
Physical Review Letters (2024.05.03.), Enhanced Far-Field Thermal Radiation through a Polaritonic Waveguide
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