자료실
National Nanotechnology Policy Center

나노기술 및 정책 정보

일본 [일본/정책] 실리콘 포토닉스 디바이스의 시작(試作) 체제 구축

페이지 정보

발행기관
산업기술종합연구소
저자
 
종류
 
나노기술분류
 
발행일
2020-02-27
조회
2,650

본문

산업기술종합연구소(AIST), 실리콘 포토닉스 디바이스의 연구 개발 시작(試作) 체제 구축

 

개요

산업기술종합연구소(AIST) 전자광기술연구부문과 TIA추진센터가, AIST가 개발한 세계 최첨단 실리콘 포토닉스 기술을 보급하기 위해 다양한 사용자가 사용할 수 있는 일본 최초의 실리콘 포토닉스 장치의 시작(試作) 체제를 구축함. 가공 정밀도가 우수한 300mm 웨이퍼 프로세스를 이용한 연구 개발용 공적 실리콘 포토닉스 시작 체제로는 세계적으로 유일한 것임. 지금까지 AIST에서 독자적으로 개발해온 실리콘 포토닉스 기술을 바탕으로 디바이스 설계 기본 정보, 표준 장치 메뉴를 정리한프로세스 디자인 키트(PDK)’를 정비하여 사용자들이 디바이스 장치를 쉽게 설계하도록 함. 또한, AIST 실리콘 포토닉스 컨소시엄 활동의 일환으로 설계 정보 수집 및 시작 디바이스 분배와 관련하여 사용자 창구 기능을 설치함으로써 편리성을 향상시킴.

 

향후 계획

최신 실리콘 포토닉스 기술 개발을 지속하고 개발 기술을 순차적으로 PDK에 반영하여 최신 기술을 항시 제공 할 수 있는 시작 체제를 구비해 나갈 계획이며, 향후 일본 국내외 민간 기업·대학 등의 연구 개발을 폭넓게 지원하고 개발 기술 보급에 힘쓸 예정임.