나노기술 및 정책 정보

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조지아 공과대학교( Georgia Institute of Technology) 연구팀이 분해능을 저하시키지 않고 기존의 이광자 리소그래피 (TPL: two photon lithography) 기술보다 1000 배 빠른 작은 구조를 제작할 수있는 나노 스케일 3D 인쇄 기술을 개발함.

연구팀은 TPL의 7-800 nm 직경으로 한 점의 고강도 빛을 조사하는 것이 아닌, 백 만개 이상의 점을 투영하여, 구조를 패턴화함. 액상의 중합체 재료에 펨토초 레이저를 조사하여 광패턴을 형성한 뒤, 중합반응으로 고체화시켜 나노스케일 구조를 형성함.

이 기술을 통해 빠른 속도와 해상도를 동시에 갖춘 나노스케일 프린팅이 가능할 것이며, 바이오스캐폴드 및 광학 메타물질과 같은 기능성 마이크로 및 나노 구조의 제조 및 생산이 가능할 것으로 기대됨.

본 연구 성과는 ‘Science’ 지에 게재됨