나노기술 및 정책 정보

• 목록

● 네덜란드 반도체 장비 업체 ASML은 2㎚ 기술 장벽을 넘을 ‘게임 체인저’ 역할을 할 것으로 기대를 모으는 차세대 극자외선(EUV) 노광 장비를 공개

● ASML이 공개한 차세대 노광 장비 ‘하이 뉴메리컬어퍼처(NA) EUV’는 2층 버스 크기로 한 대 가격이 3억 5,000만 달러(약 4,660억 원) 수준으로, 이 장비를 활용하면 반도체 집적도가 기존보다 2.9배 향상

● 이에 따라 2나노 공정 선점을 두고 경쟁하는 삼성전자와 TSMC, 인텔의 하이-NA EUV 확보 경쟁이 더 치열해질 전망

● 해당 장비를 가장 먼저 확보한 인텔은 지난해 12월 하이-NA EUV를 받아 내년부터 본격적인 반도체 생산에 나설 계획이며, 삼성전자는 ASML과 공동으로 투자한 반도체 첨단 공정 R&D 센터에 오는 2027년 해당 장비를 반입할 예정