일본 도쿄농공대학, 100nm의 적외선 흡수 메타표면 개발
페이지 정보
- 발행기관
- 일간공업신문
- 저자
- 종류
- R&D
- 나노기술분류
- 나노공정·분석·장비 > 나노구조체 기술
- 발행일
- 2024-03-14
- 조회
- 626
- 출처 URL
본문
● Takehito Suzuki 교수(도쿄농공대학) 연구팀은 두께 100nm의 질화 실리콘막을 이용해 초박막 메타표면을 개발
● 연구팀은 적외선이 입사하는 실리콘막 표면에는 가로세로 1,200nm의 정사각형 금 패치를 주기적으로 배치해 패턴을 형성하고, 뒷면에는 표면과 같은 격자 모양으로 폴리메틸메타크릴레이트(PMMA) 선을 긋고 금막을 배치
● 이어 연구팀은 새로 개발한 메타표면을 실험한 결과, 주파수 50THz의 흡수율이 97.1%, 투과율이 0.7%인 것을 확인
● 해당 메타표면은 테라헤르츠(THz)파 안테나, 전파 흡수체, 적외선 센서 등에 응용이 가능할 전망
Optics Letters (2024.03.04), Ultrathin metasurface on a 100 nm-thick dielectric membrane absorbs infrared rays
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