나노기술 및 정책 정보

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고휘도광과학연구센터(JASRI) 등 공동 연구팀이 200나노미터의 구조를 해상할 수 있는 고해상도 X선 영상 검출기 개발에 성공함. 이 X선 영상 검출기는 세계 최고 수준의 해상력을 가지고 있으며, 지금까지 불가능했던 정밀한 X선 사진을 얻을 수 있음. 지금까지 X선 이미지의 해상도는 500나노미터 전후의 구조까지가 한계였음. 연구팀은 X선이 가시광선으로 변환 된 후 결상 과정에 주목하여, 해상도의 비약적인 향상을 도모함. 특히 접합층이 없는 투명한 5마이크로미터 두께의 박막 신틸레이터의 개발에 성공하여 광학 특성을 크게 향상시킴. 그 결과, X선 영상의 이론적 한계에 가까운 200나노미터의 해상력을 실현했으며, 이 기능을 이용하여 초대규모집적회로(VLSI) 장치 내부의 300나노미터 폭 배선의 촬영에 성공함. VLSI의 내부 미세 배선을 비파괴적이면서 실용 수준의 화질로 시각화한 것은 세계 최초임. 향후 SPring-8 등과 같은 대형 방사광 시설뿐만 아니라 소형 X선원을 이용한 전자 장치의 비파괴 검사 등에서의 실용화가 기대됨. 본 연구 성과는 ‘Optics Letters’ 지에 게재됨