나노기술 및 정책 정보

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□ 주요 내용

○ 패터닝 센터 (Patterning Center of Excellence, CoE)는 리소그래피 장비를 사용하고 리소그래피 재료 제조회사는 수직적으로 통합된 반도체 처리 시설에 대한 접근을 제공한다. 새로운 센터는 개별 반도체 회사에 중요한 리소그래피 소재 개발의 유형·무형의 비용을 절감하는 것을 목표로 하고 있음

○ CNSE는 2005년 5월 CNSE에 설립된 10억 달러 이상 상당의 최첨단 연구 센터로 대표되는 기술 센터인 반도체 연구 센터 (Center for Semiconductor Research, CSR), 450 밀리 웨이퍼와 장비 개발 환경 구축에 초점을 맞춘 450 컨소시엄 (G450C), SEMATECH CNSE회원에 의해 우수성기능을 을 가능하게 구축하기 위해 계속 노력해 왔음

○ “빈 마스크의 SEMATECH의 최근 성과에 더하여 새로운 패터닝 센터 회원 및 업계가 EUV리소그래피가 제작 가능하다는 것을 보여 줌으로 계속해서 중요한 기능을 제공하고 있다. 게다가 새로운 센터가 EUV 신흥 패터닝 기술을 사용하기 위해 필요한 비용 효율적인 반도체 재료 및 공정 용액 고도화에 우수한 플랫폼을 제공할 것이다.”고 Michael Lercel 수석이사는 말함

○ “새로운 패터닝 센터는 EUVL 기술의 상용화를 지원하기 위해 SEMATECH- CNSE/SUNYIT 파트너십에 의해 활성화된 세계 최고 수준의 기능을 기반으로 함

○ 뉴욕 주 주지사 Andrew Cuomo의 리더십 하에 반도체 산업에 대한 선구적으로 우리는 우리의 글로벌 기업 파트너 및 업계의 첨단 기술 요구 사항을 지원하기 위해 기쁘게 생각한다. “고 Micael Liehr 새롭게 합병된 CNSE/SUNYIT 기술 혁신 부 총장이 말함

○ 리소그래피 패터닝의 발전은 레스스트 및 재료를 가능하게 적시 가용성에 따라 좌우 된다. 새로운 센터인 SEMATECH의 빈 마스크와 새로운 영상 업적을 토대로 중요한 구성 요소는 새로 병합한 CNSE/SUNYIT 에 대한 접근을 통해 제조 EUVL 등 차세대 기술에 대한 설계의 타당성을 검증

○ SEMATECH 소개 : 25년 이상 SEMATECH® 주요 반도체 소자, 장비, 재료 업체의 국제 컨소시엄으로 글로벌 방향을 설정하고, 유연한 협업을 활성화하고 제조 전략적 R&A, 나노 전자 산업 전반에 걸쳐 협력을 촉진하는 노력을 통해 생산성을 제조 개선, 업계의 주류로 연구를 수행하고 기술 합의를 구동하며 시장 위험과 시간을 단축하고 회원들과 파트너가 중요한 산업 전환을 해결하는데 도움을 줌

○ 더 자세한 내용은www.sematech.org에서 찾을 수 있고,

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