나노기술 및 정책 정보

- 중국 국가 나노과학센터 팡잉(方英)연구원 연구팀은 AFM을 이용하여 고분자(PMMA)를 기반으로 그래핀 나노구조에 대한 정밀연구를 실시하였다. 동 연구를 통해 PMMA의 유리화온도(Tg) 이상에서 냉각을 시작할 때 그래핀 주변에 나노크기의 사이클 주름이 나타난다는 점을 발견하였다. 그래핀과 PMMA 사이에 비교적 큰 열팽창 계수 차이가 존재하기 때문에 PMMA의 냉각과정에서 신속히 수축된 그래핀에 응력(Stress)이 생성되며, 생성되는 응력을 극복하기 위해 주변에서 왜곡(Distortion) 현상이 발생하여 사이클 주름이 나타난다는 결론을 도출하였으며 이런 방법으로 그래핀 속에 나노구조를 도입하는 새로운 방법을 개발하였다.

- 그래핀의 역학 성능 및 그래핀과 기반 환경 간의 상호 역할을 우선적으로 이해하고 사이클 주름에 의한 전자학 특성이 변하도록 조절하였다. 관련 연구 성과는 지난 8월 5일자 나노레터스(Nano Letters)에 발표되었으며, 연구는 중국과학원(CAS)의 원장특별기금 지원으로 추진되었다.