나노기술 및 정책 정보

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일리노이대학교 연구팀이 나노 크기의 전자기계 장치를 만드는 더 정확하고 새로운 방법을 개발함. 연구팀이 개발한 방법은 2차원 재료를 3차원 통합 시스템으로 제조하는 초정밀 그래핀 에치 제어법(graphene etch stops)임. 흑린, 질화붕소 등 2차원 재료 층 사이에 그래핀 층을 배치함으로써 그래핀이 아래층을 보호하여 한 층만을 선택적으로 에칭 할 수 있음. 이 기술로 이종구조에서 정교한 패턴을 한 번에 제작할 수 있으며, 소자를 만드는 전체 공정을 보다 간소화할 수 있을 것으로 기대함. 본 연구 성과는 ‘Nature Communications’ 지에 게재됨