나노기술 및 정책 정보

2008년 9월 25일 일본 로옴(http://www.rohm.co.jp/)기업은 칭화(清华)대학에 2억 엔(한화 약 22억 원)을 기부하여 “칭화-로옴 전자 공정관”을 건설하기로 협의 하였다.  건설 후 “칭화-로옴 전자 공정관”은 중국 고등교육 기관 중 규모나 실력면에서 가장 우수한 전자 공정 교육기관 및 과학 연구 기구로 사용될 것이다.

 

중국 주재 일본 대사관의 Kazuyuki Katayama 대사의 발표에 따르면 “칭화-로옴 전자 공정관”은 건설 후 과학 연구 장소이자 중국 학생들의 학습 장소로 사용되어 중국과 일본 양국의 상호 교류를 유리하게 하며 양국민의 우호 관계를 유지하는 기지가 될 것이라고 한다.

 

“칭화-로옴 전자 공정관”의 총 면적은 3만 평방미터에 이르며, 앞으로 3년 내에 완공 될 것으로 예측된다. “칭화-로옴 전자 공정관”은 대규모 집성의 전로(电路) 연구 개발 센터, 광전자 무균 실험실, 국제 학술 산업 교류 시설로 구성되어 중일 양국의 과학 연구, 인재 육성 및 학술교류 방면에서의 협력 사업 추진에 사용될 것이다.

 

칭화(清华)대학과 일본 로옴(ROHM)기업은 협력관계를 유지해 왔으며 2006년 “칭화-로옴 과학 연구 협력 조직 협의”를 체결하고 나노 광전자 부품 영역의 협력 연구를 확대하여 중요 성과를 얻은바 있다. 일본 로옴(ROHM)기업은 세계적 전자기업으로 마이크로 전자 및 광전자 칩의 연구 개발 생산 방면에서의 세계 일류 기업이다.