나노기술 및 정책 정보

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● DNP가 반도체 제조의 최첨단 프로세스인 극단 자외선(Extreme Ultra-Violet, EUV) 리소그래피에 대응하는 3nm 상당의 포토 마스크 제조 공정을 개발

● 해당 멀티 전자빔 마스크 묘화 장치는 약 26만개의 전자빔의 조사가 가능하며 복잡한 패턴 형상에서도 묘화 시간을 대폭 단축할 수 있는데, 본 장치의 특성을 살려 제조 프로세스를 개선하고 데이터 보정 기술과 EUV 리소그래피용 포토 마스크의 복잡한 곡선 패턴 구조에 맞춘 가공 조건을 최적화

● 2030년에는 연간 100억 엔의 매출을 목표로 하고 있으며, imec을 비롯한 파트너사와의 공동 개발을 통해 2nm 이후의 프로세스 개발도 진행