나노기술 및 정책 정보

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● 린텍이 극자외선(EUV) 노광 장치용으로 포토마스크(반도체 회로의 원판)의 방진 커버 ‘Pellicle’을 개발

● 내구성이 높은 탄소 나노 튜브(CNT)를 사용함으로써 폴리실리콘 등을 사용한 기존 제품에 비해 내열성을 2배로 향상

● ‘Pellicle’은 미세 패턴이 그려진 포토마스크의 표면에 장착하는 얇은 보호막으로 이물질의 부착을 방지함으로써 포토마스크의 검사·교환 빈도를 저감시키며, 반도체 회로 패턴의 미세화에 대응할 수 있을 것으로 기대

● 당사는 약 50억 엔을 투입하여 2025년도까지 양산 체제를 구축할 계획