나노기술 및 정책 정보

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※100엔=1290.64원(2009.8.5)

1. 배경
 ○ 나노일렉트로닉스(Nanoelectronics)는 일본의 차세대 기간산업 창출의 원천이며, 인간 중심의 안심·안전한 유비쿼터스 사회, 세계를 선도하는 에너지 절약 사회를 실현하는 전략적 "국가 기간 기술"로서 자리 매김하는 것이 필요하다.
 ○ 일본이 자랑으로 여기는 나노기술·재료기술, 반도체 장치/재료 기술, 그리고 축적한 일렉트로닉스·반도체 기술의 총력을 결집한 나노 일렉트로닉스 기술에 대해 세계를 선도해 새로운 산업 및 비즈니스 창출을 위한 시책이 요구된다
 - 나노 일렉트로닉스 시장 예측 : 2020년 8조엔, 2030년 18조엔

2. 일본의 나노 일렉트로닉스의 과제
(1) 과제
 ○ 기업
  - 첨단 일렉트로닉스 연구개발의 고도화·거액화·다양화에 의해 일본 종합반도체 기업의 전방위적 연구개발 전략은 한계
  - 수직 제휴의 부족
  - 대학·독립법인과의 제휴에 의한 오픈 이노베이션 전략 부족
  - 장치·재료·디바이스 메이커의 해외 연구 거점 전개로 일본내 공동화(空洞化)
 ○ 대학·독립법인
  - 개개의 요소 기술이 전국에 분산된 거점에서 연구되고 있다
  - 자원(인재·자금)이 부족
  - 전기·전자계 학과의 인기 침체에 따라 학생의 학력수준이 상대적으로 낮다.
(2) 대책
 ○ 일본의 나노일렉트로닉스 전략을 구축해 본 분야의 기반적 연구를 촉진
 ○ 수직 제휴의 추진
 ○ 대학 연구 성과의 디바이스 실증이 가능한 체제와 장소의 구축
  - 산관학 네트워크 형성
  - 산관학 파트너링 구축
 ○ 나노일렉트로닉스 연구 성과의 사업화 촉진 및 차세대 산업 창출을 위한 시책 검토
  - 시장 예측
  - 글로벌적인 인재육성을 추진하는 연구 체제, 벤처 육성

3. 나노일렉트로닉스 연구거점 설치의 제안

(1) 분산되어 있는 일본의 나노일렉트로닉스 연구 성과를 실증하기 위한 공통의 장소를 설치하여 제휴 기회를 마련하고 실용화로 연결한다. 특히 차세대 산업 창출로의 기대가 큰 CMOS(Complementary Metal-oxide Semiconductor) 기술에 나노기술·재료기술 및 타 분야 기술을 융합한 CMOS 베이스·나노일렉트로닉스에 주력한다.
(2) 카본 일렉트로닉스 등 일본이 선도하는 나노일렉트로닉스 분야에서 산관학의 지혜를 결집한 거점을 구축하고 해외의 인재·노하우를 유입하여 일본의 우위성을 높인다.
(3) 산업기술종합연구소, 물리재료연구기구 등 공적 연구기관, 대학·기업을 비롯한 일본의 나노일렉트로닉스 연구에 필요한 인재, 시설을 갖추고 제휴를 위한 연구거점을 설치한다.
(4) CMOS 산관학 연구 프로젝트가 추진되어 CMOS를 기반으로 한 인프라, 지식 축적, 인재가 있는 산업기술종합연구소를 성과 실증의 장소로서 활용한다.

4. 거점을 이용한 나노 일렉트로닉스 연구테마
(1) CMOS 베이스·나노 일렉트로닉스(전략적 핵심 연구테마)
 - CMOS 기술에 일본의 강한 광(光)기술이나 나노 재료 기술을 융합해 부가가치를 높인다
 - ①나노 CMOS, ②실리콘 포토닉스, ③카본 일렉트로닉스
(2) Beyond CMOS
 - 전하 이외의 물리량으로 정보처리를 실시해, CMOS를 능가하는 혁신적 전자 디바이스를 창출
 - ④Non Charge Logic, ⑤新메모리
(3) 이머징 어플리케이션 (Emerging application)
 - 환경 조화형 유비쿼터스 사회 실현을 위한 응용 지향의 나노 재료·디바이스 창출
 - ⑥에너지 변환 재료, ⑦센싱, ⑧플렉서블 일렉트로닉스
(4) 공통 기반 연구
 - 나노 일렉트로닉스의 연구 개발을 지지하는 공통 기반기술
 - ⑨나노 디바이스의 지적 설계 연구개발, ⑩나노제조

* 제4기 나노테크놀로지 재료위원회(제14회) 배부자료임(2009.01.13).