나노기술 및 정책 정보

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● 캐논은 나노 임프린트 반도체 제조장치 ‘FPA-1200NZ2C’를 발매

● 나노 임프린트 리소그래피(Nano Imprint Lithography, NIL) 기술을 활용, 웨이퍼 위에 도포된 레지스트에 도장을 찍듯이 마스크를 눌러 회로 패턴을 형성

● NIL은 광학계를 개입시키지 않고 마스크 위의 미세한 회로 패턴을 웨이퍼 위에 충실히 재현할 수 있으며, 3차원 입체적인 회로 패턴도 1회의 패터닝 공정으로 형성 가능

● 기존의 최첨단 로직 반도체 제조 레벨인 5nm 노드(최소 선폭 14nm)의 패턴 형성에 적용 가능