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National Nanotechnology Policy Center

나노기술 및 정책 정보

일본 IP 분극을 이용한 2차원 강유전성 반도체 메모리 개발

페이지 정보

발행기관
마이나비
저자
 
종류
R&D
나노기술분류
나노정보전자
발행일
2023-08-18
조회
710

본문

● Yutaka Majima 교수(도쿄공업대) 연구팀은 2차원 강유전성 반도체 α-In2Se3를 갭 길이 ​​100nm의 나노 갭 전극 위에 전사한 바텀 콘택트(bottom contact)비 휘발성 메모리 구조를 제작

● IP(in-plane) 분극 반전에 기초한 강유전성 반도체의 비휘발성 메모리 루프 효과를 나타냈으며, 103에 이르는 ON/OFF(ratio)와 함께 17시간 이상 지속되는 안정적인 리텐션(데이터 유지 시간) 1200사이클 이상의 내구성을 확인

● 해당 반도체는 시스템의 메모리 용량 확장 및 전력 소비를 줄이면서 신뢰성도 향상시켜, 차세대 전자제품의 단순화된 구성을 고려할 때 대규모 집적에 기여할 것으로 전망


Advanced Science (2023.08.11.), Bottom Contact 100 nm Channel-Length α-In2Se3 In-Plane Ferroelectric Memory