일본 NTT-AT, 내광성 우수한 굴절률 1.9의 나노임프린트 수지 개발
페이지 정보
- 발행기관
- MONOist
- 저자
- 종류
- 산업
- 나노기술분류
- 나노공정·분석·장비
- 발행일
- 2024-09-02
- 조회
- 153
본문
● 일본의 ICT 기업인 NTT 어드밴스드 테크놀로지(NTT-AT)는 내광성이 우수하고 굴절률이 1.9로 높은 나노임프린트 수지 신제품을 개발했으며, 내년 1월부터 판매를 시작한다고 발표
● NTT-AT의 개발품은 나노임프린트 기술로 선폭 45~500nm의 나노 패턴을 형성할 수 있으며, 파장 400~800nm의 높은 광투과성을 보이는 것이 특징
● 해당 신제품은 가시광 영역에서 높은 신뢰성이 필요한 가상현실(VR), 증강현실(AR) 헤드셋용 도파로 등 광학기기에 활용이 가능할 것으로 기대
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