나노기술 및 정책 정보

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● 우에스기 유키 조교(토호쿠대) 연구팀이 펨토초 레이저를 사용하여 탄소 원자 1개 층 정도의 두께로 이루어진 그래핀 막을 나노스케일로 정밀 가공

● 두께 5~50nm의 실리콘계 박막을 펨토초 레이저를 사용하여 미세 가공하는 기술을 그래핀 막에 적용, 막을 파손하지 않고 100nm 이하의 구멍을 가진 다점 드릴링 공정개발

● 레이저의 에너지와 조사 횟수를 제어함으로써 크기를 자유롭게 가공

● 본 연구결과로 표면의 오염물이 제거되어 나노스케일 세공이나 원자 수준의 구조 변화를 확인하였으며, 향후 그래핀 및 다른 2차원 물질의 정밀 가공법 개발에 도움이 될 전망